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?復旦張衛(wèi)團隊開創(chuàng)第三類存儲技術

文章出處:半導體 責任編輯:上海意泓電子科技有限責任公司 發(fā)表時間:
2020
11-10

原標題:我國科學家開創(chuàng)第三類存儲技術
   
據(jù)新華社電 (記者吳振東)近日,復旦大學微電子學院教授張衛(wèi)、周鵬團隊實現(xiàn)了具有顛覆性的二維半導體準非易失存儲原型器件,開創(chuàng)了第三類存儲技術,寫入速度比目前U盤快一萬倍,數(shù)據(jù)存儲時間也可自行決定。這解決了國際半導體電荷存儲技術中“寫入速度”與“非易失性”難以兼得的難題。

據(jù)了解,目前半導體電荷存儲技術主要有兩類,第一類是易失性存儲,例如計算機中的內(nèi)存,掉電后數(shù)據(jù)會立即消失;第二類是非易失性存儲,例如人們常用的U盤,在寫入數(shù)據(jù)后無需額外能量可保存10年。前者可在幾納秒左右寫入數(shù)據(jù),第二類電荷存儲技術需要幾微秒到幾十微秒才能把數(shù)據(jù)保存下來。

此次研發(fā)的新型電荷存儲技術,既滿足了10納秒寫入數(shù)據(jù)速度,又實現(xiàn)了按需定制(10秒-10年)的可調(diào)控數(shù)據(jù)準非易失特性。這種全新特性不僅在高速內(nèi)存中可以極大降低存儲功耗,同時能實現(xiàn)數(shù)據(jù)有效期截止后自然消失,在特殊應用場景解決了保密性和傳輸?shù)拿堋?br/>
這項研究創(chuàng)新性地選擇多重二維材料堆疊構成了半浮柵結構晶體管:二硫化鉬、二硒化鎢、二硫化鉿分別用于開關電荷輸運和儲存,氮化硼作為隧穿層,制成階梯能谷結構的范德瓦爾斯異質結?!斑x擇這幾種二維材料,將充分發(fā)揮二維材料的豐富能帶特性。一部分如同一道可隨手開關的門,電子易進難出;另一部分像一面密不透風的墻,電子難以進出。對‘寫入速度’與‘非易失性’的調(diào)控,就在于這兩部分的比例?!敝荠i說。

寫入速度比目前U盤快一萬倍,數(shù)據(jù)刷新時間是內(nèi)存技術的156倍,并且擁有卓越的調(diào)控性,可以實現(xiàn)按照數(shù)據(jù)有效時間需求設計存儲器結構……經(jīng)過測試,研究人員發(fā)現(xiàn)這種基于全二維材料的新型異質結能夠實現(xiàn)全新的第三類存儲特性。

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